清洗液


刻蚀后清洗液适用于 Al/Cu 金属线、、、、通孔、、、金属焊及硬掩模等制程,,,,蚀刻残留物去除能力强、、、、低缺陷。。
抛光后清洗液适用于不同抛光工艺后的清洗,,,,去除抛光颗粒及残留,,,,防止表面腐蚀,,降低缺陷。。
高纯IPA,,,,用于马兰戈尼方式的清洗与干燥。。。。

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握铺微介绍

握铺微电子是为上海握铺科技股份有限公司旗下成员企业,,,, 是 一家专注于电子化学品材料研发、、 生产、、销售及技术服务的科技型企业。。目前,,, 握铺微在上海化学工业区规划年产 4 万吨电子材料研发及制 造基地,,,,其中一期年产 1.8 万吨剥离液项目已投产; 在合肥投 资 3 亿元建设电子材料基地,,,预计于 2024 年三季度正式投产。。

 

研发

1、、、、研发中心位于上海,,,长濑技术合作+握铺自主研发

2、、团队拥有多名业内资深专业人士

3、、、截至23年12月,,申请专利18项,,,其中授权11项,,,审查中7项

产品

1、、、、半导体显示:光刻胶剥离液(水系/有机系)、、、蚀刻液 (Cu/Al/Ag)等

2、、、、集成电路:光刻胶剥离液、、、、清洗液(PEER/PCMP)、、、蚀刻液 (金属/非金属膜层)

交付

1、、、、自建工厂:上海握铺微2021年8月成立,,,22年11月投产剥离液年产能1.8万吨

                        合肥握铺微2022年9月成立,,建设中,,,预计24年Q3投产

2、、、、合作工厂:西南/西北合作交付基地

 

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